蒸鍍和濺鍍是常見的鍍膜技術，它們有以下的差異：
 
蒸鍍與濺鍍的鍍膜原理不同：
蒸鍍是利用熱能或電子束將鍍材加熱至昇華或離子化，再沉積到基材上形成膜層。
濺鍍是利用離子束轟擊鍍材，使其形成離子狀態，然後通過電場沉積到基材上形成膜層。
 
蒸鍍與濺鍍的製程特點不同：
蒸鍍技術可以製備高純度、高密度和高平整度的薄膜，適用於高檔玻璃、光學器件、積體電路等行業。
濺鍍技術適用範圍廣，可以製備大面積、厚度均勻的薄膜，且其薄膜質量在某些方面如附著力和耐腐蝕性等方面比蒸鍍技術更優秀。
例如需要重視剝離強度(拉力強度)的鍍膜就建議採用濺鍍方式才能達到要求。
 
蒸鍍與濺鍍的鍍膜材料限制不同：
蒸鍍技術可以用於鍍膜多種材料，如金屬、氧化物、硫化物、氮化物等。
濺鍍技術通常適用於金屬、塑膠材料、氧化物材料的鍍膜。

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