真空スパッタ製膜による薄膜の特徴

1. スパッタリングされた金属の場合、材料の表面は優れた金属質感と高い輝度を持ちます

2. 真空スパッタリングで使用されるターゲット材料はリサイクルおよび再処理が可能であり、プロセスは真空環境下でプラズマを介して基板上に堆積されるため、環境に優しいです。

3. ターゲットにできるものであれば、高融点金属、合金など、あらゆる材料をスパッタリングに使用できる。

4. スパッタリングにより得られた膜は高純度で密度が良好である

5.スパッタリングプロセスは再現性が良く、膜厚を制御できるため、大面積の均一な薄膜の製造に適しています。

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